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Nanomaterials Nanodevices Lab

Micro-/Nano-Patterning 기반 반도체·디스플레이 공정 UROP 교육생 모집 안내

이번 방학 동안 반도체·디스플레이 공정에 관심 있는 학생들을 대상으로 Micro-/Nano-Patterning 기반 반도체·디스플레이 공정 교육을 진행하고자 합니다.

본 교육은 단순 장비 견학이 아니라, 반도체 및 디스플레이 소자 제작에 필요한 핵심 공정을 직접 이해하고 실습하는 것을 목표로 합니다. 특히 micro-/nano-LED 디스플레이 및 광 반도체 제작 공정의 기초가 되는 패터닝, 박막 증착, 식각, 두께 측정 및 소자 제작 흐름을 중심으로 교육이 진행됩니다.

1. 교육 대상

본 교육은 공정 실습의 난이도와 연구실 운영 여건을 고려하여, 향후 Nanomaterials & Nanodevices Lab 대학원 진학을 진지하게 희망하는 학생에 한하여 모집합니다.

관심 있는 모든 학생에게 기회를 제공하지 못하는 점은 아쉽지만, 본 교육은 준비와 운영에 많은 시간이 필요한 프로그램이므로 대학원 연구 및 진학과 직접적으로 연결될 수 있는 학생들을 우선 대상으로 진행하고자 합니다.

2. 교육 내용

(1) PR Micro-/Nano-Patterning 공정 교육

반도체·디스플레이 공정의 기본이 되는 포토리소그래피 및 나노패터닝 공정을 교육합니다.

주요 교육 장비 및 내용은 다음과 같습니다.

• PR spin coater 기반 photoresist coating 공정, Contact aligner 기반 micro-patterning 공정, Nano-imprinter 기반 nano-patterning 공정, Optical microscope 기반 패턴 형상 관찰 및 공정 결과 확인,

• PR coating, exposure, development, pattern inspection의 기본 공정 흐름 이해

(2) 박막 증착 및 두께 측정 공정 교육

반도체·디스플레이 소자 제작에 필요한 다양한 박막 증착 공정을 교육합니다.

주요 교육 장비 및 내용은 다음과 같습니다.

• Sputter 기반 금속 및 산화물 박막 증착, ALD 기반 원자층 박막 증착, E-beam evaporator 기반 금속/무기 박막 증착, Thermal evaporator 기반 금속/무기 박막 증착, PECVD 기반 무기 박막 증착

• Ellipsometer 기반 박막 두께 및 광학 특성 측정, Alpha-Step 기반 박막 두께 및 step height 측정

(3) Dry Etching 및 Wet Etching 기반 박막 Patterning 공정 교육

증착된 박막을 원하는 구조로 가공하기 위한 식각 공정을 교육합니다.

주요 교육 장비 및 내용은 다음과 같습니다.

• Asher 기반 PR descum 및 표면 처리, RIE 기반 dry etching 공정, ICP 기반 고밀도 plasma dry etching 공정,

• Wet etching 기반 inorganic, organic, metal 박막 patterning

• 박막 종류별 식각 특성 및 공정 조건 이해 및 Pattern transfer 및 SEM 측정을 통한 소자 구조 형성 공정 이해

(4) Micro-/Nano-LED 디스플레이 및 광 반도체 제작 공정 이해

위의 공정 교육을 기반으로, micro-/nano-LED 디스플레이 및 광 반도체 제작에 필요한 전체 공정 흐름을 학습합니다.

주요 교육 내용은 다음과 같습니다.

• Micro-/nano-LED 소자 제작을 위한 patterning–deposition–etching 공정 흐름, 전극 형성 및 박막 구조 설계의 기본 개념

• 디스플레이 pixel 구조 제작 공정 및 발광 특성 측정을 통한 작동 특성 이해

• 광 반도체 소자 제작을 위한 micro-/nano-scale fabrication process 이해

• 반도체·디스플레이 공정이 실제 연구 및 소자 개발에 적용되는 방식 학습

3. 교육 목표

본 교육의 목표는 학생들이 반도체·디스플레이 공정의 기본 원리를 이해하고, 실제 연구실 수준의 장비와 공정 흐름을 경험함으로써 향후 대학원 연구에 필요한 기초 역량을 갖추도록 하는 것입니다.

교육을 통해 학생들은 다음과 같은 역량을 기를 수 있습니다.

• 전주기 반도체-디스플레이 제작 공정 이해

• Micro-/nano-LED 디스플레이 및 광 반도체 제작 공정 이해

• 대학원 연구 수행을 위한 기본 공정 감각 및 실험 태도 함양

4. 모집 안내

• 모집 대상: Nanomaterials & Nanodevices Lab 대학원 진학을 희망하는 학부생

• 교육 분야: 반도체·디스플레이 공정, micro-/nano-patterning, micro-/nano-LED, 광 반도체

• 교육 방식: 장비 및 공정 원리 교육, 공정 실습, 결과 관찰 및 분석

• 선발 기준: 대학원 진학 의지, 연구 관심도, 교육 참여 가능성 등을 종합적으로 고려

• 모집 기간: 2026.07.01-2026.07.10

• 연락처: 관심있는 학생은 wjdgy8462@kookmin.ac.kr 와 yrdo@kookmin.ac.kr 동시에 연락 바람

• ​교육 기간: 여름 방학 기간 약 6주간

본 교육은 향후 반도체·디스플레이·광 반도체 분야 대학원 연구를 준비하는 학생들에게 좋은 기회가 될 것입니다. 관심 있는 학생들의 지원 바랍니다.